4.2 Reflexion 4.2.1 Reflektivität im Röntgenbereich

Beschreibung

Karteikarten am 4.2 Reflexion 4.2.1 Reflektivität im Röntgenbereich, erstellt von Tom Schobert am 26/09/2017.
Tom Schobert
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Erstellt von Tom Schobert vor etwa 7 Jahre
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Allgemeines: transparente Materialgrenze reflektiert → Fresnelsche Formeln Grenzfläche beliebiges Material XR: Winkel üblicherweise zur Oberfläche gemessen senkrechter Einfall: R≈1/4 (δ^2+β^2 )
äußere Totalreflexion harte Strahlung aus Vakuum auf Materie opt. dicht→ opt. dünn (n=1 →n<1) θ≈√2δ Reflexion an glatten Flächen im schleifenden Einfall Totalreflexion = Brechung unmöglich
Verringerung 100% Totalreflexion Absorption: β nicht vernachlässigbar Reflexion innerhalb dünne Schicht (Dicke= „Skintiefe“) Regel: β<δ/2→Reflexion bis Grenzwinkel gut (R≥50%) Oberflächenbeschaffenheit: Oberflächenrauigkeit möglichst gering sonst Streuung Rauigkeit < Wellenlänge
Schwierigkeiten effiziente Reflexion für harte Strahlung (hν>1keV): immer kleiner werdenes δ → Winkel zur Oberfläche immer kleiner Streuwahrscheinlichkeit immer kleiner → Eindringtiefe nimmt zu Bedingung für glatte Oberfläche (σ<A): Grenze Atom/Materialgröße
Vielschichtspiegel (multilayer mirrors): Aufbau maßgeschneiderte dünne Schichten zwei Materialien unterschiedlicher Brechzahl und geringer Absorption Abwechselndes Reflexion an dichtem und dünnem Medium → konstruktive Interferenz für: d_1≈d_2≈λ/4 schräger Einfall: sin⁡〖θ=λ/2d+2d⋅δ/λ〗
Vielschichtspiegel (multilayer mirrors): Eigenschaften XUV-Bereich(5-80 nm) → Reflektivitäten 50-80 % Absorption im Schichtmaterial → größere Absorptionsschicht wesentliche dünner Anzahl L von Schichtpaaren variieren und kombinieren dicke Spiegel Spektralbereich Reflexion näherungsweise: Δλ/λ=1/L Rauigkeit im Bereich σ≤d/20=λ/40
Vielschichtspiegel (multilayer mirrors): Anwendungen weicher Spektralbereich: Monochrom-Anwendungen mit hoher Reflektivität Breitbandspiegel (Δλ/λ≥0.1)→ Reflektivität selten über 25 %
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